無掩膜直寫光刻設備定義為一種無需物理掩膜版、通過計算機控制的高精度光束（如激光束或數字微鏡器件）直接在光刻膠或感光材料的基材上曝光圖形的微納加工設備，適用于微納米級圖形制備。其核心技術基于光學或帶電粒子束（如激光直寫、DMD投影）直接掃描或投影圖案，消除了掩膜版制作環(huán)節(jié)，實現高精度圖形轉移。設備的核心優(yōu)勢包括高靈活性、快速原型制造能力，以及顯著降低研發(fā)成本和時間周期。主要應用于科研機構、實驗室及小批量工業(yè)原型制造（如微流控芯片、半導體器件開發(fā)）。